Profily

Profily

Můj profil Moje knihovna

Michael Nolan

Tyndall National Institute, University College Cork, Ireland

E-mailová adresa ověřena na: tyndall.ie

Počet citací tohoto článku: 9968

atomic layer deposition atomic layer etching photocatalysis computational chemistry metal oxides

Sumit Agarwal

Colorado School of Mines

E-mailová adresa ověřena na: mines.edu

Počet citací tohoto článku: 3459

Plasma processing photovoltaics atomic layer deposition atomic layer etching nanomaterials

Haozhe Wang

Assistant Professor, Duke University

E-mailová adresa ověřena na: duke.edu

Počet citací tohoto článku: 2507

2D Materials Atomic Layer Etching 3D Packaging

Andreas Fischer

Technologist, Semiconductor Industry

E-mailová adresa ověřena na: claryconresearch.com

Počet citací tohoto článku: 2426

Atomic Layer Etching Selective Etch Semiconductor processes Plasma Physics Plasma Confinement

Taewook Nam

Assistant professor at Semiconductor Systems Engineering, Sejong University

E-mailová adresa ověřena na: sejong.ac.kr

Počet citací tohoto článku: 2380

atomic layer etching atomic layer deposition thin film deposition surface functionalization

Ki Seok Kim

Massachusetts Institute of Technology

E-mailová adresa ověřena na: mit.edu

Počet citací tohoto článku: 2168

Atomic Layer Etching Plasma CVD Single-Crystal 2D Growth Nano-materials

Bonggeun Shong

Hongik University

E-mailová adresa ověřena na: hongik.ac.kr

Počet citací tohoto článku: 1960

surface chemistry atomic layer deposition atomic layer etching

Younghee Lee

Lam Research

E-mailová adresa ověřena na: colorado.edu

Počet citací tohoto článku: 1855

Atomic Layer Etching Atomic Layer Deposition Selective Etch Selective Deposition EUV resist

John Hennessy

Jet Propulsion Laboratory, California Institute of Technology

E-mailová adresa ověřena na: jpl.nasa.gov

Počet citací tohoto článku: 1763

atomic layer deposition atomic layer etching ultraviolet sensors and systems semiconductor surface passivation

Pankaj Ramnani

University of California, Riverside, Lam Research

E-mailová adresa ověřena na: ucr.edu

Počet citací tohoto článku: 1097

Atomic Layer Etching Selective Deposition PECVD Carbon-based nanomaterials

1 - 10